发明名称 APPARATUS AND METHOD FOR REMOVING A CMP POLISHING PAD FROM A PLATEN
摘要 The invention provides a pad removal apparatus and method that enables improved pad removal from a platen.
申请公布号 US2005277368(A1) 申请公布日期 2005.12.15
申请号 US20050160197 申请日期 2005.06.13
申请人 EBARA TECHNOLOGIES INCORPORATED 发明人 WALSH CORMAC;LIU JUN;MOLONEY GERARD;SALDANA A. ERNESTO
分类号 B24B1/00;B24B37/04;B24B37/20;B24B37/34;B24D13/14;(IPC1-7):B24B1/00 主分类号 B24B1/00
代理机构 代理人
主权项
地址