METHOD OF FORMING BI-LAYER PHOTO MASK USING NEUTRAL BEAM SOURCE,申请号KR20040043147-传众专利搜索

发明名称	METHOD OF FORMING BI-LAYER PHOTO MASK USING NEUTRAL BEAM SOURCE
摘要
申请公布号	KR20050117880(A)	申请公布日期	2005.12.15
申请号	KR20040043147	申请日期	2004.06.11
申请人	SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.	发明人	BAE, IN DEOG;SHIN, CHUL HO;KANG, CHANG JIN;MIN, GYUNG JIN
分类号	H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
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