发明名称 Exposure apparatus
摘要 An exposure apparatus is disclosed, the exposure apparatus for use with non-pellicle reticle including a sensing unit for detecting a particle at a reticle stage and a cleaner for cleaning the detected particle at the reticle stage.
申请公布号 US2005275816(A1) 申请公布日期 2005.12.15
申请号 US20040998973 申请日期 2004.11.30
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 LEE HONG G.
分类号 H01L21/027;G03B27/52;G03F7/20;(IPC1-7):G03B27/52 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址