绝缘膜用材料、绝缘膜用罩光清漆,以及绝缘膜和采用该膜或该清漆的半导体装置

摘要

一种绝缘膜用材料，其特征在于它包括作为成膜组分的一种共聚物，通过使具有特定结构的聚酰胺与反应性低聚物反应而制备该共聚物；一种绝缘膜用罩光清漆，其包括该材料和有机溶剂；一种绝缘膜，其特征在于它包括一层以聚苯并噁唑作为主结构的树脂并且含有微孔，通过加热该材料或该罩光清漆以使经受缩合反应和交联反应而制备出该聚苯并噁唑；以及一种半导体装置，该装置包括包含该绝缘膜的多层线路用层间绝缘膜和/或表面保护层。该绝缘膜用材料的电学性能、热性能、机械性能等性能优异，其还可以用于制备具有降低的介电常数的绝缘膜。

主权项

1.一种绝缘膜用材料，其包括作为成膜组分的一种共聚物，通过使以下通式[1]所示聚酰胺和带有能够与聚酰胺结构中羧基、氨基或羟基反应的取代基的具有100至40,000的数均分子量的反应性低聚物进行反应而获得该共聚物，所述的反应性低聚物是通过在至少一种选自聚氧化亚烷基、聚苯乙烯、以及聚-α-甲基苯乙烯的低聚物分子中引入至少一种选自羧基、氨基、和羟基取代基的基团而得到的；其中，R¹至R⁴各自独立地代表氢原子或一价有机基团，X代表选自下式(A)所示基团的四价基团，X代表的两个基团可以彼此相同或不同，Y代表至少一种选自下式(B)、(C)、(D)和(E)所示基团的二价基团，Z代表选自下式(F)所示基团的二价基团，m和n各自代表满足关系式m＞0、n≥0、2≤m+n≤1,000和0.05≤m/(m+n)≤1的整数，且重复单元的排序可以是嵌段排列方式或无规排列方式；式(A)式(B)-1式(B)-2式(C)-1式(C)-2式(D)式(E)式(F)其中，式(A)和(F)中的X¹代表选自下式(G)所示基团的二价基团：式(G)式(C)中的R代表烷基或选自下式(H)所示基团的一价基团：式(H)以及式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)、(F)和(G)所示基团中苯环上的氢原子可以被至少一种选自具有1至4个碳原子的烷基、氟原子和三氟甲基的原子或基团所取代。