| 发明名称 | 用于红外敏感组合物的杂取代的芳基乙酸共引发剂 | ||
| 摘要 | 红外敏感组合物除了包括聚合物粘合剂以外，还包括可自由基聚合的体系和引发剂体系，所述可自由基聚合的体系由选自不饱和自由基可聚合单体、自由基可聚合的低聚物和在主链内和/或在侧链基团内含C－C键的聚合物中的至少一种成分组成，其中引发剂体系包括下述组分：(a)至少一种能吸收红外辐射的物质；(b)至少一种能产生自由基的化合物；和(c)至少一种用下述通式结构表示的杂取代的芳基乙酸共引发剂化合物，其中X是氮、氧或者硫，Ar是任何取代或未取代的芳环和R是任何取代基。Ar－X－CH<SUB>2</SUB>CO<SUB>2</SUB>H | ||
| 申请公布号 | CN1708409A | 申请公布日期 | 2005.12.14 |
| 申请号 | CN200380102351.3 | 申请日期 | 2003.10.23 |
| 申请人 | 柯达保丽光印艺有限责任公司 | 发明人 | H·M·蒙奈利;P·R·维斯特;H－J·蒂姆普;U·穆勒;黄建兵 |
| 分类号 | B41M5/36;B41C1/10 | 主分类号 | B41M5/36 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 刘明海 |
| 主权项 | 1.一种红外敏感组合物，它包括含下述组分的引发剂体系：(a)至少一种能吸收红外辐射的物质；(b)至少一种能产生自由基的化合物；和(c)至少一种选自下述通式结构的杂取代的芳基乙酸共引发剂化合物： Ar-X-CH<sub>2</sub>CO<sub>2</sub>H，<img file="A2003801023510002C1.GIF" wi="440" he="227" />和<img file="A2003801023510002C2.GIF" wi="435" he="150" />其中X是氮、氧或者硫，Ar是任何取代或未取代的芳环和R是任何取代基。 | ||
| 地址 | 美国康涅狄格 | ||