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发明名称 METHOD FOR PREVENIONING RESIDUE OF PHOTORESIST
摘要
申请公布号 KR20050117061(A) 申请公布日期 2005.12.14
申请号 KR20040042239 申请日期 2004.06.09
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 KANG, CHUN SOO
分类号 H01L21/265;H01L21/28;(IPC1-7):H01L21/28 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
主权项
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