微阵列清洗装置和方法

摘要

本发明公开了用于将阵列基底和流体相接触的装置以及用于清洗阵列基底的新方法。在一种实施方式中，所述装置包括界定出清洗腔的室体、与清洗腔流体连通的流体入口、与清洗腔流体连通的排空口、适于引导气流到阵列基底表面上方的气体入口以及与清洗腔可操作联系的程序控制器，所述程序控制器可操作来进行包括用所述流体自动充满清洗腔的清洗方案。前述方法包括将阵列基底放置于清洗腔中，触发第一排空和充满步骤，自动进行第二排空和充满步骤，以及自动进行缓慢排空步骤。

主权项

1.一种用于将阵列基底与流体接触的装置，所述装置包括：界定出清洗腔的室体，与所述清洗腔流体连通的流体入口，与所述清洗腔流体连通的排空口，适于引导气流到阵列基底表面的上方的气体入口，和与所述清洗腔可操作联系的程序控制器，所述程序控制器可操作来进行清洗方案，所述方案包括自动用所述流体充满所述清洗腔。