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发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION OF DRY-FILM PHOTORESIST FOR THE MANUFACTURING TFT PATTERN
摘要
申请公布号 KR20050116572(A) 申请公布日期 2005.12.13
申请号 KR20040041682 申请日期 2004.06.08
申请人 KOLON INDUSTRIES, INC. 发明人 JHO, SEUNG JE;CHOI, JUN HYEAK;LEE, BYEONG IL;HAN, KOOK HYEON
分类号 G03F7/004;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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