| 主权项 |
1.一种光阻组合物,其包含三聚氰胺衍生物、聚乙烯基苯酚型聚合物、感光性酸生成剂及一有机溶剂。2.如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中该三聚氰胺衍生物系为式1所示之化合物:其中R1及R2个别系为C1-C20烷基或C1-C10醚基。3.如申请专利范围第2项之光阻组合物,其中该三聚氰胺衍生物系为式1a所示之化合物:4.如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中该三聚氰胺衍生物系存在以该光阻组合物总重计为0.1重量%至20重量%范围之量。5.如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中该聚乙烯基苯酚聚合物系具有5000至9000范围之分子量。6.如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中该聚乙烯基苯酚聚合物系包含聚(N,N-二甲基丙烯醯胺/3,3-二甲氧基丙烯/丙烯醛)与聚乙烯基苯酚之掺合聚合物。7.如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中该聚乙烯基苯酚聚合物系存在以该光阻组合物总重计为2.5重量至15重量%范围之量。8.如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中该感光性酸生成剂系选自由苯二醯亚胺三氟甲磺酸酯、二硝基基甲苯磺酸酯、正癸基二及醯亚胺三氟甲磺酸酯所组成之群。9.如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中该感光性酸生成剂包含i)第一感光性酸生成剂,其系选自由苯二醯亚胺三氟甲磺酸酯、二硝基芳基甲苯磺酸酯、正癸基二及醯亚胺三氟甲磺酸酯所组成之群;及ii)第二感光性酸生成剂,其系选自由六氟磷酸二苯碘、六氟砷酸二苯碘、六氟锑酸二苯碘、三甲甲磺酸二苯基对-甲氧苯基、三氟甲磺酸二苯基对-甲苯基、三氟甲磺酸二苯基对-异丁基苯基、六氟砷酸三苯基、六氟锑酸三苯基、三氟甲磺酸三苯基硫及三氟甲磺酸二丁基基所组成之群。10.如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中该感光性酸生成剂系存在以该光阻聚合物为100重量份计为0.05至10重量份范围之量。11.如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中该有机溶剂系选自二(乙二醇)二乙醚、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲基醚乙酸酯、环己酮及其混合物。12.如申请专利范围第1项之光阻组合物,其中该有机溶剂系存在以该光阻聚合物为100重量份计为500至2000重量份范围之量。13.一种用以形成光阻图案之方法,其包含以下步骤:(a)将申请专利范围第1项之光阻组合物涂覆于待蚀刻之底层的顶部,以形成光阻薄膜;(b)使该光阻薄膜曝光;(c)烘烤该经曝光之光阻薄膜;及(d)使形成之结构显影,以得到光阻图案。14.如申请专利范围第13项之方法,其中该曝光步骤(b)系使用选自由下列各物组成之群的光源进行:EUV、KrF、ArF、VUV(真空紫外线)、电子束、X-射线或离子束。15.一种如申请专利范围第13项用以形成光阻图案之方法用于制造半导体制置之用途。图式简单说明:图1系为说明实施例3制得之光阻图案的相片。图2系为说明实施例4制得之光阻图案的相片。 |
