发明名称 微透镜的制造方法及微透镜,光学装置,光传送装置,雷射印表机用头,电射印表机
摘要 本发明的课题是在于提供一种可使液滴的喷着位置精度提升,制造出形状精度佳的微透镜之微透镜的制造方法及微透镜,光学装置,光传送装置,雷射印表机用头,雷射印表机。亦即,本发明之微透镜的制造方法,系于基体3上所形成的基座构件4b上,由液滴喷出头34来喷出透镜材料7之规定滴数的液滴,而形成微透镜8a者,其特征为:停止基体3与液滴喷出头34的相对移动,而由液滴喷出头34来喷出复数个液滴于基体3上的规定位置。
申请公布号 TWI244973 申请公布日期 2005.12.11
申请号 TW093123391 申请日期 2004.08.04
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 长谷井宏宣;鬼头聪
分类号 B29D11/00 主分类号 B29D11/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种微透镜的制造方法,其系于基体上所形成的基座构件上,由液滴喷出头来喷出透镜材料之规定滴数的液滴,而形成微透镜者,其特征为:停止上述基体与上述液滴喷出头的相对移动,而由上述液滴喷出头来喷出复数个上述液滴于上述基体上的规定位置。2.如申请专利范围第1项之微透镜的制造方法,其中由上述液滴喷出头一次连续喷出的上述液滴滴数与上述规定滴数相等。3.如申请专利范围第1项之微透镜的制造方法,其中由上述液滴喷出头一次连续喷出的上述液滴滴数较上述规定滴数少,其次至上述液滴喷出于同一基座构件上为止,进行喷着于上述基座构件上之透镜材料的暂时硬化。4.如申请专利范围第3项之微透镜的制造方法,其中至喷出于同一基座构件上之上述液滴的合计数与上述规定滴数形成相等为止,保持停止上述相对移动的状态下,在同一基座构件上重复进行上述液滴的喷出。5.如申请专利范围第3项之微透镜的制造方法,其中在一个基座构件上喷出液滴之后,在其他的基座构件的至少一个基座构件上喷出上述液滴,再度于上述一个基座构件上喷出液滴。6.如申请专利范围第1~5项的其中任一项所记载之微透镜的制造方法,其中由上述液滴喷出头来一次将上述液滴喷出于复数个上述基座构件上。7.如申请专利范围第3~5项的其中任一项所记载之微透镜的制造方法,其中上述透镜材料为利用挥发性溶剂所稀释的材料,上述暂时硬化为规定时间放置喷着后的透镜材料者。8.如申请专利范围第6项之微透镜的制造方法,其中上述透镜材料为利用挥发性溶剂所稀释的材料,上述暂时硬化为规定时间放置喷着后的透镜材料者。9.如申请专利范围第3~5项的其中任一项所记载之微透镜的制造方法,其中上述透镜材料为紫外线反应后硬化的材料,上述暂时硬化为对喷着后的上述透镜材料照射紫外线者。10.如申请专利范围第6项之微透镜的制造方法,其中上述透镜材料为紫外线反应后硬化的材料,上述暂时硬化为对喷着后的上述透镜材料照射紫外线者。11.一种微透镜,其特征系以申请专利范围第1~10项的其中任一项所记载之微透镜的制造方法来制造。12.一种光学装置,其特征系具备以申请专利范围第1~10项的其中任一项所记载之微透镜的制造方法取得的微透镜,且将上述微透镜配设于上述面发光雷射的射出侧。13.一种光传送装置,其特征系具备:申请专利范围第12项所记载之光学装置,及受光元件,以及将来自上述光学装置的射出光传送至上述受光元件的光传送手段。14.一种雷射印表机用头,其特征系具备申请专利范围第12项所记载之光学装置。15.一种雷射印表机,其特征系具备申请专利范围第14项所记载之雷射印表机用头。图式简单说明:图1是表示第1实施形态的流程图。图2(a)~(e)是表示微透镜的制造过程图。图3(a),(b)是表示液滴喷出头的概略构成图。图4(a),(b)是表示微透镜的制造过程图。图5(a)~(c)是表示微透镜图。图6(a)~(c)是表示微透镜的平行光化机能图。图7是用以说明拨液处理之透镜材料的接触角。图8是表示本发明之雷射印表机用头的概略构成图。图9是表示第2实施形态的流程图。图10(a),(b)是表示微透镜的制造过程图。图11是表示第2实施形态的变形例的流程图。
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