| 主权项 |
1.一种光阻剂图案之制造方法,其特征为包括如下步骤:于基材的一表面具有化学放大型光阻剂层、及形成于上述化学放大型光阻剂层上之可藉由加热放出酸的导电性膜的基板上,从上述导电性膜侧以图案状照射电子线的照射步骤;从照射过电子线的基板,除去上述导电性膜的导电性膜除去步骤;对于已除去导电性膜的基板,施以曝光后烘乾的曝光后烘乾步骤;及对于已施以曝光后烘乾的基板进行显像,形成由化学放大型光阻剂组成的图案的显像步骤。2.如申请专利范围第1项之光阻剂图案之制造方法,其中,上述导电性膜为水溶性。图式简单说明:图1(a)~(d)为显示本发明光阻剂图案之制造方法之一例的步骤图。图2为显示本发明光阻剂图案之一例的概略剖面图。 |
