| 主权项 |
1.一种微透镜的制造方法,其特征系具备: 在基体上形成基座构件之步骤; 对上述基座构件的上面进行拨液处理之步骤;及 藉由具备复数个喷嘴的液滴喷出喷头,利用至少两 个喷嘴喷出复数点透镜材料于上述拨液处理后的 基座构件上,在上述基座构件上形成微透镜之步骤 。 2.如申请专利范围第1项之微透镜的制造方法,其中 在上述拨液处理的步骤中,在对以上述基座构件形 成材料所形成的平面配置上述透镜材料时,以能够 发挥该透镜材料的接触角为形成20以上的拨液性 之方式来进行拨液处理。 3.如申请专利范围第1或2项之微透镜的制造方法, 其中在形成上述基座构件的步骤中,使上述基座构 件的上面形状形成圆形或椭圆形,或者多角形。 4.如申请专利范围第1或2项之微透镜的制造方法, 其中在藉由上述液滴喷出法来喷出透镜材料时,以 所形成之微透镜的上面侧的曲率能够形成预先设 定的规定曲率之方式来决定喷出的点数。 5.如申请专利范围第1或2项之微透镜的制造方法, 其中上述透镜材料系由非溶剂系的光透过性树脂 所构成。 6.一种微透镜,其系形成于基体上所形成之基座构 件的上面者,其特征为: 上述基座构件的上面会被施以拨液处理, 上述微透镜系藉由具备复数个喷嘴的液滴喷出喷 头,从至少两个喷嘴喷出复数点透镜材料于上述拨 液处理后的基座构件上而形成者。 7.如申请专利范围第6项之微透镜,其中上述基座构 件的上面形状为圆形或椭圆形,或者多角形。 8.如申请专利范围第6或7项之微透镜,其中与上述 基座构件的上面平行之微透镜的横断面的最大外 径比上述基座构件的上面的外径更大。 9.如申请专利范围第6或7项之微透镜,其中上述基 座构件具有透光性。 10.一种光学装置,其特征系具备:面发光雷射,及藉 由申请专利范围第1~5的其中任一项所记载的制造 方法而取得的微透镜,或申请专利范围第6~9的其中 任一项所记载的微透镜, 并且,将上述微透镜配置于上述面发光雷射的射出 侧。 11.一种光传送装置,其特征系具备:申请专利范围 第10项所记载的光学装置,及受光元件,以及将来自 上述光学装置的射出光传送至上述受光元件的光 传送手段。 12.一种雷射印表机用头,其特征系具备:申请专利 范围第10项所记载的光学装置。 13.一种雷射印表机,其特征系具备:申请专利范围 第12项所记载的雷射印表机用头。 图式简单说明: 图1(a)~(e)是表示本发明之微透镜的制造步骤图。 图2(a)~(c)是表示喷墨头的概略构成图。 图3(a),(b)是表示本发明之微透镜的制造步骤图。 图4(a)~(c)是表示本发明的微透镜。 图5(a)~(c)是表示微透镜的集光机能图。 图6是用以说明拨液处理之透镜材料的接触角。 图7是表示本发明之雷射印表机用头的概略构成图 。 |
