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发明名称 Verfahren zur Formung eines lokalisierten Gebietes aus einem schwierig zu ätzenden Material
摘要
申请公布号 DE60302134(D1) 申请公布日期 2005.12.08
申请号 DE20036002134 申请日期 2003.12.22
申请人 STMICROELECTRONICS S.A., MONTROUGE 发明人 HALIMAOUI, AOMAR;BENSAHEL, DANIEL
分类号 H01L21/28;H01L21/316;H01L21/336;H01L29/51;(IPC1-7):H01L21/28;H01L21/02 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
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