发明名称 | 用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种化学放大体系,它对300nm和100nm之间的波长敏感,并包含a)一种不溶于碱性水溶液且包含至少一个酸不稳定基团的聚合物,b)一种能够在辐射时生产酸的化合物。本发明包含一种由脂环族烃烯烃,具有侧环状部分的丙烯酸酯,和环状酸酐制成的聚合物。本发明还涉及一种用于成像这种光刻胶的方法。 | ||
申请公布号 | CN1230715C | 申请公布日期 | 2005.12.07 |
申请号 | CN01812974.9 | 申请日期 | 2001.07.11 |
申请人 | AZ电子材料日本株式会社 | 发明人 | M·D·拉曼;M·帕德马纳本;R·R·戴米尔 |
分类号 | G03F7/039 | 主分类号 | G03F7/039 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈季壮 |
主权项 | 1.光刻胶组合物,包括成分a)和b)的混合物,其中成分a)是聚(马来酸酐-共聚-叔丁基5-降冰片烯-2-羧酸酯-共聚-2-羟基乙基5-降冰片烯-2-羧酸酯-共聚-5-降冰片烯-2-羧酸-共聚-甲基丙烯酸-2-甲基金刚烷基酯-共聚-甲羟戊酸甲基丙烯酸酯),且成分b)是一种光酸生成剂。 | ||
地址 | 日本东京 |