发明名称 用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法
摘要 本发明涉及一种化学放大体系,它对300nm和100nm之间的波长敏感,并包含a)一种不溶于碱性水溶液且包含至少一个酸不稳定基团的聚合物,b)一种能够在辐射时生产酸的化合物。本发明包含一种由脂环族烃烯烃,具有侧环状部分的丙烯酸酯,和环状酸酐制成的聚合物。本发明还涉及一种用于成像这种光刻胶的方法。
申请公布号 CN1230715C 申请公布日期 2005.12.07
申请号 CN01812974.9 申请日期 2001.07.11
申请人 AZ电子材料日本株式会社 发明人 M·D·拉曼;M·帕德马纳本;R·R·戴米尔
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 陈季壮
主权项 1.光刻胶组合物,包括成分a)和b)的混合物,其中成分a)是聚(马来酸酐-共聚-叔丁基5-降冰片烯-2-羧酸酯-共聚-2-羟基乙基5-降冰片烯-2-羧酸酯-共聚-5-降冰片烯-2-羧酸-共聚-甲基丙烯酸-2-甲基金刚烷基酯-共聚-甲羟戊酸甲基丙烯酸酯),且成分b)是一种光酸生成剂。
地址 日本东京