发明名称 等离子体装置及其制造方法
摘要 一种等离子体装置,具有:带有开口部分的容器(11),由此容器的开口部分的外周的端面所支撑的、并堵塞开口部分的电介质部件(13),通过此电介质部件(13)向容器(11)内部供给电磁场的电磁场供给装置,以及覆盖电介质部件(13)的外周、屏蔽电磁场的屏蔽材料(12)。其中,从容器(11)端面上的容器(11)的内表面到屏蔽材料(12)的内表面的距离L<SUB>1</SUB>大约是由容器(11)的端面、电磁场供给装置和屏蔽材料(12)所围起来的区域(18)内的电磁场的波长的N/2倍(N是零以上的整数)。
申请公布号 CN1230877C 申请公布日期 2005.12.07
申请号 CN02805069.X 申请日期 2002.02.15
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 石井信雄
分类号 H01L21/3065;H05H1/46;B01J19/08 主分类号 H01L21/3065
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人 赵淑萍
主权项 1.一种等离子体装置,具有:带有开口部分的容器(11);电介质部件(13),由该容器的开口部分外周的端面支撑并堵塞所述开口部分;电磁场供给装置,通过该电介质部件从所述开口部分向所述容器内部供给电磁场;以及屏蔽材料(12),至少包围在所述容器的端面和所述电磁场供给装置之间设置、覆盖所述电介质部件的外周并屏蔽所述电磁场,其特征在于,从所述容器端面上的所述容器内表面到所述屏蔽材料的内表面之间的距离,大约是由所述容器的端面、所述电磁场供给装置和所述屏蔽材料所围起来的区域内的所述电磁场的波长的N/2倍,N是1以上的整数。
地址 日本东京都