| 发明名称 | 离子发生装置及静电去除设备 | ||
| 摘要 | 包括针状的放电极(12)与导电性的成对电极(13)，通过对该放电极(12)施加交流高电压，因电晕放电，使放电极(12)周边的空气形成离子。至少放电极(12)的前端(12”)由硅单晶形成，放电极(12)的前端(12”)与成对电极(13)之间的最短距离(L)在0.4～4cm的范围内，施加于放电极(12)上的交流高电压的有效值V小于8kV，并且按照下述方式设定，该方式为：1.8L(cm)+0.5＜V(kV)＜2.8L(cm)+1.0。 | ||
| 申请公布号 | CN1230954C | 申请公布日期 | 2005.12.07 |
| 申请号 | CN00128196.8 | 申请日期 | 2000.10.21 |
| 申请人 | 高砂热学工业株式会社 | 发明人 | 阪田总一郎 |
| 分类号 | H01T19/04;H01T23/00;B08B6/00 | 主分类号 | H01T19/04 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 叶恺东 |
| 主权项 | 1.一种离子发生装置，其包括针状的放电极与导电性的成对电极，通过对该放电极施加交流高电压，因电晕放电，使放电极周边的空气形成离子，其特征在于：至少放电极的前端由硅单晶形成，放电极的前端与成对电极之间的最短距离L在0.4～4厘米的范围内，施加于放电极上的交流高电压的有效值V小于8千伏，并且按照下述方式设定，该方式为：1.8L+0.5＜V＜2.8L+1.0，这里，L的单位为厘米，V的单位为千伏。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||