二进制半色调光掩模和微型三维装置及其制作方法

摘要

本发明一般涉及改进的二进制半色调(“BHT”)光掩模，和由该种BHT光掩模制作的微型三维结构(如MEM、微光学、光子学、微结构、和其他三维微型装置)。更具体说，本发明提供一种方法，用于设计BHT光掩模布局、把该布局转印到BHT光掩模上、和用本发明方法设计的BHT光掩模制作三维微型结构。就此而言，设计BHT光掩模布局的方法，包括的步骤有：产生至少两个像素；把每一像素分为沿第一轴有可变长度而沿第二轴有固定长度的子像素；和排列这些像素，使通过这些像素的透射光形成图形，以便形成连续色调的、空间的像。这些子像素的面积，应小于计划与所述二进制半色调光掩模一起使用的曝光设备光学系统的最小分辨率。通过使用本方法，能够设计有连续灰度级的BHT光掩模，使在各灰度级之间的光强的变化，既是限定的也是线性的。结果是，当用该种BHT光掩模来制造三维微型结构时，能够在被制作的物体上产生更平滑又更线性的轮廓。

主权项

1.一种二进制半色调光掩模，包括：基本透明的基片；有图形形成其中的不透明层，所述图形由至少一个像素定义，其中，每一像素被分为沿第一轴有可变长度而沿第二轴有固定长度的子像素。