| 发明名称 | 六芳基二咪唑化合物和含有该化合物的光聚合引发剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供了下式(1)的新的六芳基二咪唑化合物：其中每个R<SUB>1</SUB>代表卤素，且每个R<SUB>2</SUB>代表任选取代的C<SUB>1－4</SUB>烷基。本发明的六芳基二咪唑化合物可在用作抗蚀剂的可光致聚合的组合物中作为光自由基产生剂，且以低升华的热分解产物为特征。可光致聚合的组合物可适于用作抗蚀剂或用作彩色液晶显示元件、照相机等等的彩色滤光片。 | ||
| 申请公布号 | CN1705646A | 申请公布日期 | 2005.12.07 |
| 申请号 | CN200380101425.1 | 申请日期 | 2003.10.01 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 镰田博稔;沟达宽;大西美奈 |
| 分类号 | C07D233/54;G03F7/00 | 主分类号 | C07D233/54 |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 林柏楠;刘金辉 |
| 主权项 | 1.如下面式(1)所定义的六芳基二咪唑化合物：<img file="A2003801014250002C1.GIF" wi="919" he="740" />其中每个R<sub>1</sub>代表卤素原子，每个R<sub>2</sub>代表任选被取代的C<sub>1-4</sub>烷基。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||