| 发明名称 | 介质处理装置和使用该介质处理装置的介质签发装置 | ||
| 摘要 | 一种介质处理装置，其使用了一种小型的并且带有共用元件的环形传送机构。在该环形传送机构中使用有一圆环和多个带传送机构。通过使用该传送机构来回传送介质，并使用一个单独的记录元件进行记录处理。同时，该环形传送机构被模块化地构造，并且达到了将该装置所需的传送与一输送机构模块相结合。 | ||
| 申请公布号 | CN1704975A | 申请公布日期 | 2005.12.07 |
| 申请号 | CN200410087943.9 | 申请日期 | 2004.10.27 |
| 申请人 | 富士通株式会社;富士通先端科技株式会社 | 发明人 | 北川岳志;桧山千里;后藤野果;江添江 |
| 分类号 | G07B3/02;G07B5/00 | 主分类号 | G07B3/02 |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郑特强;经志强 |
| 主权项 | 1.一种介质处理装置，用于来回传送介质，并在该介质上进行记录处理，包括：一不具有旋转支点的圆环；多个设置于该圆环圆周上的带传送机构；以及一设置于该圆环圆周上的记录元件，其中所述多个带传送机构支撑该圆环，并且驱动该圆环旋转，以使该介质通过被夹在所述带传送机构与该圆环之间而被来回传送。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||