发明名称 非挥发性记忆体及其操作方法
摘要 本发明公开了一种非挥发性记忆体及其操作方法,该非挥发性记忆体的记忆胞为单闸极,其在一半导体基底上内嵌一电晶体及一电容结构,电晶体包含一第一导电闸极堆叠在一介电层表面,且二侧形成有离子掺杂区以作为源极及汲极,电容结构则包含一离子掺杂区及其上堆叠的介电层、第二导电闸极,且电容与电晶体的导电闸极相电连接而形成记忆胞的单浮接闸极;其中半导体基底为P型或N型。另外,对于该单闸极记忆胞,提出逆向偏压的程序化写入以及相关的抹除及读取等操作方式。
申请公布号 CN1705131A 申请公布日期 2005.12.07
申请号 CN200410037092.7 申请日期 2004.06.01
申请人 亿而得微电子股份有限公司 发明人 王立中;黄文谦;林信章;张浩诚
分类号 H01L27/115;H01L27/112;H01L21/8247;H01L21/8246 主分类号 H01L27/115
代理机构 厦门市新华专利商标代理有限公司 代理人 朱凌
主权项 1、一种非挥发性记忆体,其特征在于该记忆体包括:一半导体基底;一电晶体结构,位于该半导体基底的表面,该电晶体包含一第一介电层位于该半导体基底表面上、一导电闸极叠设于该第一介电层上方、以及数第一离子掺杂区位于该半导体基底内,分别作为其源极及汲极;以及一电容结构,位于该半导体基底的表面,该电容结构包含一第二离子掺杂区于该半导体基底内、一第二介电层位于该第二掺杂区表面上,以及一第二导电闸极叠设于该第二介电层上方,其中,该第一及第二导电闸极为隔离且为电连接,作为单浮接闸极。
地址 台湾省新竹县竹北市台元街28号7楼之2