| 发明名称 | 化学增强正性光敏树脂组合物 | ||
| 摘要 | 一种光敏树脂组合物，适于形成厚抗蚀图形时使用的厚膜和超厚膜，该抗蚀图形应用于形成磁头上的磁极以及凸块的过程中，其包含(A)碱溶性酚醛清漆树脂，(B)碱溶性丙烯酸树脂，(C)缩醛化合物和(D)产酸剂。包含由下式(I)表示的结构单元(其中R表示含1～20个碳原子的饱和烷基，n是1－10的一个整数)的缩聚物作为缩醛化合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1705914A | 申请公布日期 | 2005.12.07 |
| 申请号 | CN200380101785.1 | 申请日期 | 2003.10.16 |
| 申请人 | AZ电子材料(日本)株式会社 | 发明人 | 西胁良典;牧井利道 |
| 分类号 | G03F7/039 | 主分类号 | G03F7/039 |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.一种化学增强正性光敏树脂组合物，包含(A)碱溶性酚醛清漆树脂，(B)碱溶性丙烯酸树脂，(C)缩醛化合物和(D)产酸剂。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||