发明名称 氮化物半导体生长用衬底
摘要 本发明提供能得到高品质的氮化物半导体晶体层的氮化物半导体生长用衬底。与本发明的一实施形态有关的在蓝宝石衬底(1)上生长氮化物半导体层用的氮化物半导体生长用衬底,具备在蓝宝石衬底(1)上另行设置的Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>层(2)、作为第1层的AlON层(3)和作为第2层的AlN层(4)。关于第1层和第2层,使其按AlON层(3)和AlN层(4)的顺序层叠在Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>层(2)上。
申请公布号 CN1706030A 申请公布日期 2005.12.07
申请号 CN200480001328.X 申请日期 2004.08.11
申请人 日本电信电话株式会社 发明人 熊仓一英;广木正伸;牧本俊树
分类号 H01L21/20;H01L21/205 主分类号 H01L21/20
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 朱丹
主权项 1.一种氮化物半导体生长用衬底,在蓝宝石衬底上生长氮化物半导体层用的氮化物半导体生长用衬底中,其特征在于,具备在上述蓝宝石衬底上另行设置的、包含N、O和Al的层,该层形成为,与上述蓝宝石衬底在第1面相接,该第1面中N对于N、O和Al的组成比的比例小于在与上述氮化物半导体层相接的第2面中N对于上述组成比的比例,而且上述第1面中O对于上述组成比的比例大于上述第2面中O对于上述组成比的比例。
地址 日本东京
您可能感兴趣的专利