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发明名称 METHOD FOR FORMING SUBSTRATE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR100532939(B1) 申请公布日期 2005.12.02
申请号 KR19990041807 申请日期 1999.09.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/314;(IPC1-7):H01L21/314 主分类号 H01L21/314
代理机构 代理人
主权项
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