使用光学规则检查来筛选解析度增强技术之积体电路装置设计及制造之系统及方法

摘要

本发明揭示一种选择复数光微影制程参数之方法，用于将线路布局(300)图案化在晶圆上，该方法包含针对复数解析度增强技术(RETs)模拟(310)该线路布局将如何印刷在晶圆上，在此每一解析度增强技术系对应于复数个光微影制程参数。针对每一解析度增强技术，可根据制造能力分类(320)该模拟线路布局内之诸结构的边缘。可选择(330)提供最佳之制造能力的析度增强技术。以此方式，该模拟工具(210)可用于决定扫描器设置及光罩型式之最佳组合，用于使晶圆关键尺寸(CD)之变动减至最小。