| 摘要 |
本发明揭示一种用于产生模拟复数个曝光工具之成像性能之模式的方法。该方法包括以下步骤：产生一用于第一曝光工具的校准模式，其能够估计一欲藉由用于一给定微影程序之该第一曝光工具产生的影像，其中该校准模式包括一第一组基本函数；产生第二曝光工具之一模式，其能够估计一欲藉由用于该给定程序之该第二曝光工具产生的影像，其中该模式包括一第二组基本函数；以及将该第二组基本函数表示为该第一组基本函数的线性组合以产生对应于该第二曝光工具的一等效模式函数，其中该等效模式函数产生一模拟影像，其对应于由用于该微影程序之该第二曝光工具所产生之该影像。 |
