| 摘要 |
本发明系提供一种藉由使梁部构造规则且简单，以便可提升图案之转印精度之光罩、使用该光罩之曝光方法、半导体装置之制造方法。构成梁部系藉由：第一梁部，其系对于X轴、Y轴倾斜延伸之第一梁12a，互相以等间隔排列复数者；及第二梁部，其系对于X轴、Y轴倾斜延伸且与第一梁12a交叉之第二梁12b，互相以等间隔排列复数者；在以支撑框11所包围之所有区域，成为规则正确之梁构造。而且在以支撑框11所包围之区域内，设定为了于被处理基板20重叠曝光之4个单位曝光区域10A～10D，重叠4个单位曝光区域10A～10D时，于任意位置至少存在2个单位曝光区域之薄膜13。 |
