发明名称 可随使用者调整排风流量比之光源散热结构
摘要 一种可随使用者调整排风流量比之光源散热结构,其包括有:一发光元件、一第一排气风扇、一第二排气风扇、及一挡板。其中,该第一排气风扇系设置于该发光元件的一侧之后端附近;该第二排气风扇设置于该发光元件的一侧之前端附近;以及该挡板系设置于该第一、二排气风扇与该发光元件之间,用于调整流经该发光元件而排出该第一排气风扇及第二排气风扇之排风流量比。因此,在不需修改原光源散热结构之情形下,即具有不同功率发光元件之相容性,不仅缩短开发时间亦降低成本。
申请公布号 TWM282195 申请公布日期 2005.12.01
申请号 TW094208467 申请日期 2005.05.24
申请人 普立尔科技股份有限公司 发明人 邱崇哲;黄凯;徐尉彬
分类号 G03B21/16 主分类号 G03B21/16
代理机构 代理人 谢宗颖 台北市大安区敦化南路2段71号18楼;王云平 台北市大安区敦化南路2段71号18楼
主权项 1.一种可随使用者调整排风流量比之光源散热结构,其包括有:一发光元件;一第一排气风扇,其设置于该发光元件的一侧之后端附近;一第二排气风扇,其设置于该发光元件的一侧之前端附近;以及一挡板,其设置于该第一、二排气风扇与该发光元件之间,为一可调节之挡板,用于调整流经该发光元件而排出该第一排气风扇及第二排气风扇之排风流量比。2.如申请专利范围第1项所述之可随使用者调整排风流量比之光源散热结构,其中该发光元件系为一具有曲面反射罩之灯泡。3.如申请专利范围第1项所述之可随使用者调整排风流量比之光源散热结构,其中该第一排气风扇及该第二排气风扇系并排设置于该发光元件之一侧。4.如申请专利范围第1项所述之可随使用者调整排风流量比之光源散热结构,其中该第一排气风扇及该第二排气风扇之间系保持一预定之空间。5.如申请专利范围第1项所述之可随使用者调整排风流量比之光源散热结构,其中该第一排气排扇及该第二排气风扇皆为轴流式排气风扇。6.如申请专利范围第1项所述之可随使用者调整排风流量比之光源散热结构,其中该挡板的大小可以调整,以配合该第一、二排气风扇之排风流量比。7.如申请专利范围第1项所述之可随使用者调整排风流量比之光源散热结构,进一步系包括有一设置于该第一、二排气风扇与该发光元件之间之壳体。8.如申请专利范围第7项所述之可随使用者调整排风流量比之光源散热结构,其中该挡板系可移动的设置于该壳体上。9.如申请专利范围第1项所述之可随使用者调整排风流量比之光源散热结构,进一步系包括有一设置于该发光元件前端之分隔板。图式简单说明:第一图系习知光源散热结构之结构示意图;第二图系本创作可随使用者调整排风流量比之光源散热结构之第一实施例之结构示意图;第三图系本创作可随使用者调整排风流量比之光源散热结构之第二实施例之结构示意图;以及第四图系本创作可随使用者调整排风流量比之光源散热结构之第三实施例之结构示意图。
地址 台北市内湖区基湖路32号