抹布结构改良

摘要

本创作系为一种抹布结构改良，尤指针对式抹布组成的各纱布层在制程中经浆料定型，造成抹布在使用时纱布层释出含有萤光剂等化学物质的浆料会刺激或伤害皮肤的缺点，加以改良之创新结构；系主要由数层纱布层重叠而加以车缝结合成一复数纱布层的抹布，该抹布再经过脱浆处理，使抹布各纱布层在脱浆处理中形成自然绉摺结构；俾可避免抹布残留含有萤光剂等化学物质的浆料在使用中释放出来造成肌肤的刺激伤害，同时抹布在擦拭使用时又以绉摺表面凹凸空间可容纳脏污杂质，而能迅速将脏污抹除乾净，具较佳之清洁效果之进步性者。

主权项

1.一种抹布结构改良,其系主要由数层脱浆的纱布层重叠,而加以车缝成具有自然绉摺结构之抹布者。2.如申请专利范围第1项所述之抹布结构改良,其中,抹布之绉摺结构系于脱浆过程中自然形成者。图式简单说明:第1图:系习式抹布之立体图。第2图:系本创作之立体示意图。第3图:系本创作之使用实施例平面示意图。