| 主权项 |
1.一种清洁带,包含有:于单面突出有纱圈之纤维基材层;涂布于前述纱圈上之研磨材层;及与前述纤维基材层之另一面结合之薄膜层。2.如申请专利范围第1项之清洁带,其中前述纤维基材层,系选自于由聚对苯二甲酸乙二醇酯、尼龙、聚丙烯、聚乙烯、100%纯棉及其混合物所构成之群组之织物或编物层。3.如申请专利范围第1项之清洁带,其中前述纱圈系形成具有5~100丹尼粗细度之细丝直径0.3mm~3mm之纱圈。4.如申请专利范围第1项之清洁带,其中前述纱圈系以500个/cm2~12,000个/cm2之密度存在于前述纤维基材层上。5.如申请专利范围第1项之清洁带,其中前述纱圈系由碳纤维构成者。6.如申请专利范围第1项之清洁带,其中前述研磨材层系以20g/m2~100g/m2的量涂布于前述纤维基材层上。7.如申请专利范围第1项之清洁带,其中前述研磨材层系包含选自于由二氧化矽(SiO2)、氧化铝(Al2O3)、碳化矽(SiC)、二氧化锆(AZ)、氧化铬(CrO2)、CBN(立方氮化硼)、金刚石、氧化铈(CeO3)及其混合物所构成之群组,且具有平均粒径0.3m ~80m之研磨材。8.如申请专利范围第7项之清洁带,其中前述研磨材层更含有导电性物质。9.如申请专利范围第1项之清洁带,其中前述薄膜层系由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯或聚酯膜所构成者。10.如申请专利范围第1项之清洁带,其中前述研磨材层系藉喷涂、网目辊涂来进行涂布者。图式简单说明:第1a及1b图系显示各种以往清洁片的概略截面图及分别使用该清洁片去除附着于固体表面之异物的过程(步骤)。第2图系显示本发明之清洁带的概略截面图。第3图系显示使用本发明之清洁带去除附着于固体表面之异物之过程(步骤)图。 |
