| 主权项 |
1.一种电浆室,包含一下电极与一上电极,且系使用于乾蚀刻一LCD,该电浆室包含:一主要电力供应器,其包括一产生具有一预定主要频率之主要电压的主要电源,以及一阻抗-匹配该主要电压之第一阻抗匹配电路;一偏压电力供应器,其包括一产生具有一预定偏压频率之偏压的偏压电源,以及一阻抗-匹配该偏压之第二阻抗匹配电路;以及一混频器,其系连接至该第一阻抗匹配电路与该第二阻抗匹配电路、接收并混合该主要电压与该偏压,且将该混合电压输出至该下电极与该上电极之一。2.如申请专利范围第1项之电浆室,更包含至少一辅助电力供应器,该辅助电力供应器包括一产生具有一预定频率之辅助电压的辅助电源,以及一阻抗-匹配该辅助电压之辅助阻抗匹配电路,其中,该混频器系连接至该辅助电力供应器之辅助阻抗匹配电路,接收并混合该主要电压、该偏压与该辅助电压,且将该混合电压输出至该下电极与该上电极之一。3.如申请专利范围第1项之电浆室,其中该混频器系藉将该所接收之电压相加而输出该混合电压。4.如申请专利范围第2项之电浆室,其中该混频器系藉将该所接收之电压相加而输出该混合电压。5.如申请专利范围第1项之电浆室,其中该偏压频率系低于该主要频率。6.如申请专利范围第2项之电浆室,其中该偏压频率系低于该主要频率。图式简单说明:第1图系为使用电容性偶合电浆之传统乾蚀刻设备的概要图;以及第2图系为使用本发明一具体实施例之电容性偶合电浆之乾蚀刻设备的概要图。 |
