| 摘要 |
〔课题」提供一种可提升良率之曝光装置〔解决手段〕在基板的全体的区域或每个为了实施曝光而预先划分的区域中实施整合处理及曝光处理，包括一判断装置36、一记忆装置32以及一曝光处理控制装置31。判断装置36系藉由摄影装置20对分别形成于上述基板上以及具有形成于基板之图案的光罩上的基板标记以及光罩标记做摄影，而根据上述两标记，判断上述基板是否为可曝光者。记忆装置32系将由该判断装置判定为不可曝光的基板的资讯，以及该基板中被判定为不可曝光的区域之未曝光处理区域的资讯，作为错误讯息而记忆在该记忆装置中。曝光处理控制装置31系存在上述未曝光处理的基板，针对一连串的基板片数，在上述整合处理及曝光处理完毕后而再投入时，根据记忆在上述记忆装置的错误讯息，控制使上述未曝光处理区域实施上述整合处理及曝光处理。 |
