绝缘膜形成用组成物及其制造方法,暨二氧化矽系绝缘膜及其形成方法

摘要

本发明系提供可形成适用于如半导体元件等的层间绝缘膜，且介电常数较小，机械强度、保存安定性及耐药液性等均优越，并具有均匀膜质之膜的绝缘膜形成用组成物及其制造方法，暨使用上述绝缘膜形成用组成物的二氧化矽系绝缘膜及其形成方法。本发明的绝缘膜形成用组成物系含有：在(B)聚碳矽烷及(C)硷性触媒存在下，使(A)含水解性基矽烷单体进行水解缩合所获得的水解缩合物；及有机溶剂。094101154-p01.bmp