雷射结晶系统暨即时控制准分子雷射退火制程能量密度之方法

摘要

本发明提供一种雷射结晶系统暨一种即时控制准分子雷射退火程序能量密度之方法。该雷射结晶系统包含有一准分子雷射退火装置与一光学检测装置。该即时控制准分子雷射退火程序之能量密度的方法，包含有利用进行一最佳能量密度决定程序，以决定出一最佳能量密度，以及利用该最佳能量密度的准分子雷射来进行一率分子雷射退火程序。