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发明名称
表面具氧化间隙壁的微机电镜面
摘要
一种微机电镜面结构,系使用蚀刻技术形成侧壁氧化间隙壁,且保持形成于反射层上之氧化层的完整性。分离镜面结构包含反射层形成于上、下层氧化层之间以及一保护层形成于上层氧化层之上。间隙壁氧化层系用于覆盖结构,且氧化间隙壁系以选择性蚀刻制程形成于不连续结构中的侧壁之上。当间隙壁氧化层之水平部分已完全蚀刻乾净,使得位于分离镜面结构下方之释放层与保护层暴露在外,则可停止蚀刻。盖在上层的保护层系于蚀刻间隙壁氧化层时,防止蚀刻技术侵蚀上层氧化层,以保护上层氧化层之完整性与镜面结构之功能。
申请公布号
TW200538387
申请公布日期
2005.12.01
申请号
TW094116783
申请日期
2005.05.23
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
陈斐筠;王薇雅;张毓华;吴子扬
分类号
B81C1/00;H01L21/70
主分类号
B81C1/00
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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