| 主权项 |
1.一种基板处理装置,其特征在于具备: 第1喷出部,其系对依照特定搬运路径被搬运来之 基板喷出高压之洗净液,以施行洗净者; 第2喷出部,其系设于前述搬运路径上之前述第1喷 出部之搬运方向下游侧,对依照前述搬运路径被搬 运来之基板,混合洗净液与气体而作为雾状混合流 体喷出,以施行洗净者。 2.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中进一 步具备: 第3喷出部,其系设于前述搬运路径上之前述第1喷 出部之前述搬运方向上游侧,对依照前述搬运路径 被搬运来之基板喷出低压之洗净液,以施行洗净者 。 3.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中进一 步具备: 处理槽,其系收容前述喷出部之全部。 4.如申请专利范围第3项之基板处理装置,其中进一 步具备: 第1液流形成部,其系设于前述处理槽内之前述搬 运路径上之前述各喷出部间,为隔开前述搬运路径 而喷出液流者。 5.如申请专利范围第3项之基板处理装置,其中进一 步具备: 第2液流形成部,其系设于前述处理槽内之前述搬 运路径上之前述第1喷出部之前述搬运方向上游侧 ,为隔开前述搬运路径而喷出液流者。 6.如申请专利范围第3项之基板处理装置,其中进一 步具备: 第3液流形成部,其系设于前述处理槽内之前述搬 运路径上之前述第2喷出部之前述搬运方向下游侧 ,为隔开前述搬运路径而喷出液流者。 7.如申请专利范围第3项之基板处理装置,其中进一 步具备: 第4喷出部,其系设于前述处理槽内之前述搬运路 径上之前述第2喷出部之前述搬运方向下游侧,对 基板喷出由装置外部所供应之未使用之洗净液而 予以洗净者。 8.如申请专利范围第1至7项中任一项之基板处理装 置,其中在被前述各喷出部洗净之际,基板系以对 于水平方向倾斜之状态,一面被搬运,一面被洗净 。 9.如申请专利范围第3至7项中任一项之基板处理装 置,其中为前述第1喷出部及前述第2喷出部所使用 之洗净液系回收使用后之洗净液而再使用者; 洗净液在回收后,被共同之泵升压而被供应给前述 第1喷出部及前述第2喷出部。 10.如申请专利范围第1至7项中任一项之基板处理 装置,其中进一步具备: 洗净刷,其系设于前述第1喷出部之前述搬运方向 上游侧,且可在对于基板接近之接近位置与离开基 板之退避位置间移动,以位于前述接近位置之状态 洗净基板者。 11.如申请专利范围第1至7项中任一项之基板处理 装置,其中 前述第1喷出部及前述第2喷出部中之至少一方包 含基板端部洗净用之喷嘴部,其系洗净基板之与前 述搬运方向垂直之宽度方向之端部者。 12.如申请专利范围第11项之基板处理装置,其中 前述第1喷出部及前述第2喷出部中之至少一方包 含: 多数喷嘴部,其系向基板分别喷出由前述洗净液或 前述混合流体构成之喷出流,该喷出流之轴直角剖 面形状在一方向成为细长之略长椭圆形者; 前述多数喷嘴部具备: 第1喷嘴部,其系被设置成前述喷出流在基板表面 之前述一方向对于前述搬运方向以角度(其中0< <180)交叉者;及 第2喷嘴部,其系被设置成在前述喷出流接触到基 板之前述端部之位置,前述一方向对于前述搬运方 向成略平行者; 并以前述第2喷嘴部作为前述基板端部洗净用之喷 嘴部。 13.如申请专利范围第1至7项中任一项之基板处理 装置,其中进一步具备: 基板端部洗净用之喷嘴部,其系洗净基板之与前述 搬运方向垂直之宽度方向之端部者。 14.如申请专利范围第13项之基板处理装置,其中 前述基板端部洗净用之喷嘴部系如下设置: 其喷出流之轴直角剖面形状在一方向成为细长之 略长椭圆形,且在该喷出流接触到基板之前述端部 之位置,前述一方向对于前述搬运方向成略平行。 15.如申请专利范围第1至7项中任一项之基板处理 装置,其中 前述洗净液系水。 16.一种基板洗净单元,其特征为对于搬运来之基板 喷出特定喷出流,以施行洗净;且具备: 基板端部洗净用之喷嘴部,其系向基板之搬运方向 垂直之宽度方向之端部喷出前述喷出流,该喷出流 之轴直角剖面形状沿着前述搬运方向成为细长之 略长椭圆形者。 17.一种基板洗净单元,其特征为对于搬运来之基板 喷出特定喷出液,以施行洗净;且 多数喷嘴部,其系向基板分别喷出由前述洗净液或 前述混合流体构成之喷出流,该喷出流之轴直角剖 面形状在一方向成为细长之略长椭圆形者;及 前述多数喷嘴部被配置成:其各喷嘴部之前述各喷 出流在基板上之喷出区域由前述搬运方向上游侧 或下游侧观看时,对于基板之与前述搬运方向垂直 之宽度方向互相部分地重叠; 向前述多数喷嘴部中之基板之前述宽度方向之端 部喷出前述喷出流之喷嘴部之前述喷出流之轴直 角剖面形状之前述略长椭圆之长度方向被设定成 与前述搬运方向略平行。 18.一种基板洗净单元,其特征为对于搬运来之基板 喷出特定喷出液,以施行洗净;且具备: 多数第1喷嘴部,其系向基板分别喷出由前述洗净 液或前述混合流体构成之喷出流,且被配置成:其 喷出流在基板上之喷出区域由前述搬运方向上游 侧或下游侧观看时,对于基板之与前述搬运方向垂 直之宽度方向互相部分地重叠者;及 至少1个第2喷嘴部,其系向基板之与前述搬运方向 垂直之宽度方向之端部喷出由前述洗净液或前述 混合流体构成之喷出流者; 前述各第1喷嘴部之前述喷出流之轴直角剖面形状 沿着对于前述搬运方向斜倾斜之方向成为细长之 略长椭圆形; 前述第2喷嘴部之前述喷出流之轴直角剖面形状沿 着前述搬运方向成为细长之略长椭圆形。 19.如申请专利范围第16至18项中任一项之基板洗净 单元,其中 前述喷出流系以高压被喷出之洗净水。 20.如申请专利范围第16至18项中任一项之基板洗净 单元,其中 前述喷出流系将洗净液与气体混合成雾状而喷出 之混合流体。 图式简单说明: 图1系表示本发明之第1实施形态之基板处理装置 之构成之模式图。 图2系说明基板之倾斜搬运用之图。 图3系由洗净部或洗净部之喷出部喷出之喷出流之 一般的(基本的)形态之说明图。 图4系由洗净部或洗净部之喷出部喷出之喷出流之 一般的(基本的)形态之说明图。 图5系由洗净部或洗净部之喷出部喷出之喷出流之 第1实施形态之设定形态之说明图。 图6系由洗净部或洗净部之喷出部喷出之喷出流之 第1实施形态之设定形态之说明图。 图7系由洗净部或洗净部之喷出部喷出之喷出流之 变形例之设定形态之说明图。 图8系表示本发明之第2实施形态之基板处理装置 之构成之模式图。 |
