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发明名称 APPARATUS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION HAVING IMPROVED REACTOR AND SAMPLE HOLDER
摘要
申请公布号 KR20050112789(A) 申请公布日期 2005.12.01
申请号 KR20040038205 申请日期 2004.05.28
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 JUNG, RAN JU;RYU, YEON TAEK
分类号 C23C16/455;C23C16/00;C23C16/44;H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 主分类号 C23C16/455
代理机构 代理人
主权项
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