| 发明名称 |
NOVEL PHOTOSENSITIVE BILAYER COMPOSITION |
| 摘要 |
Polymers and co-polymers having monomeric units formed by the polymerization of monomers of the Structure (I), where R<sup |
| 申请公布号 |
WO2005022257(A3) |
申请公布日期 |
2005.12.01 |
| 申请号 |
WO2004US26979 |
申请日期 |
2004.08.19 |
| 申请人 |
ARCH SPECIALTY CHEMICALS, INC. |
发明人 |
FOSTER, PATRICK;SPAZIANO, GREGORY;DE, BINOD, B. |
| 分类号 |
C08F24/00;C08F30/08;C08F220/18;C08F222/06;C08F230/08;G03C1/76;G03F;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/075;G03F7/09;G03F7/20;G03F7/30;G03F7/36 |
主分类号 |
C08F24/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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