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La presente invencion proporciona un metodo de deposito con vapor de sustratos comp las bandas con una capa transparente de barrera de oxido de aluminio por medio de la evaporacion de manera reactiva del aluminio y la entrada de gas reactivo en una instalacion de deposito con vapor de bandas, caracterizado en que antes de recubrir con el oxido de aluminio, una capa de metal o de oxido de metal cerrada de manera incompleta es aplicada al sustrato por medio de bombardeo ionico con magnetron.
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