| 发明名称 | 光刻装置和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种湿浸式光刻装置，包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。 | ||
| 申请公布号 | CN1702559A | 申请公布日期 | 2005.11.30 |
| 申请号 | CN200510081730.X | 申请日期 | 2005.05.20 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | B·斯特里科克;H·H·M·科西;C·A·霍根达姆;J·J·S·M·梅坦斯;K·J·J·M·扎亚;M·库佩鲁斯 |
| 分类号 | G03F7/20 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1、一种光刻装置，包括：用于调节辐射光束的照射系统；用于支持构图部件的支承结构，该构图部件能将图案赋予辐射光束的横截面，从而提供图案化的辐射光束；用于支持基底的基底台；用于将图案化的辐射光束投射到基底的靶部上的投影系统；用于在投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件；以及用于补偿液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||