发明名称 METHOD FOR MANUFACTURING HIGH MEASURE OF CAPACITY MIM CAPACITOR IN SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号 KR100532740(B1) 申请公布日期 2005.11.30
申请号 KR20030054587 申请日期 2003.08.07
申请人 发明人
分类号 H01L27/04;H01L21/02;H01L21/8242;(IPC1-7):H01L27/04 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人
主权项
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