| 发明名称 | 图形数据的制作方法、图形验证方法及其应用 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种图形数据的制作方法，包括：准备含有设计图形的集成电路图形；设定复制所述设计图形时形成在处理基板上的第1图形、或将第1图形用作掩模加工所述处理基板所形成的第2图形的容许误差范围；在所述容许误差范围内，制作目标图形；在考虑到复制所述设计图形时的影响、形成第1图形时的影响及形成第2图形时的影响中的一种或一种以上的影响的预定条件下，对所述目标图形进行修正，制作第1修正图形。 | ||
| 申请公布号 | CN1702549A | 申请公布日期 | 2005.11.30 |
| 申请号 | CN200510073472.0 | 申请日期 | 2005.05.30 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 野岛茂树;田中聪;小谷敏也;出羽恭子;井上壮一 |
| 分类号 | G03F1/08;G03F7/00;H01L21/027 | 主分类号 | G03F1/08 |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 陈海红;段承恩 |
| 主权项 | 1.一种图形数据的制作方法，包括：准备含有设计图形的集成电路图形；设定复制所述设计图形时形成在处理基板上的第1图形、或将第1图形用作掩模加工所述处理基板所形成的第2图形的容许误差范围；在所述容许误差范围内，制作目标图形；在考虑到复制所述设计图形时的影响、形成第1图形时的影响及形成第2图形时的影响中的一种或一种以上的影响的预定条件下，对所述目标图形进行修正，制作第1修正图形。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||