| 发明名称 | 涂布膜的加热装置和光刻胶的处理装置 | ||
| 摘要 | 为了提高涂布膜或光刻胶的均匀性，本发明提供了一种涂布膜加热装置和光刻胶的处理装置。本发明的涂布膜的加热装置具有内部空间的腔室；上述腔室内具有支撑被处理衬底的载置面并用于加热上述被处理衬底的加热板，所述被处理衬底具有涂布膜；以及对着上述载置面配置于上述腔室内的、用于吸附由上述被处理衬底产生的蒸发物的吸附板。 | ||
| 申请公布号 | CN1702561A | 申请公布日期 | 2005.11.30 |
| 申请号 | CN200510082468.0 | 申请日期 | 2001.12.26 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 川野健二;伊藤信一;塩原英志;河村大辅;早崎圭 |
| 分类号 | G03F7/26 | 主分类号 | G03F7/26 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 1、一种涂布膜的加热装置，具备：具有内部空间的腔室；上述腔室内具有支撑被处理衬底的载置面并用于加热上述被处理衬底的加热板，所述被处理衬底具有涂布膜；以及对着上述载置面配置于上述腔室内的、用于吸附由上述被处理衬底产生的蒸发物的吸附板。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||