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发明名称
A method to create a copper diffusion deterrent interface.
摘要
申请公布号
SG116423(A1)
申请公布日期
2005.11.28
申请号
SG20010004745
申请日期
2001.08.07
申请人
CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING, LTD.
发明人
SIMON CHOOI;YAKUB ALIYU;MEI SHENG ZHOU;JOHN LEONARD SUDIJONO;SUBHASH GUPTA;SUDIPTO RANENDRA ROY;PAUL HO KWOK KEUNG;YI XU
分类号
H01L21/285;H01L21/311;H01L21/314;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/768
主分类号
H01L21/285
代理机构
代理人
主权项
地址
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