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发明名称 Lithographic apparatus, method of calibrating and device manufacturing method.
摘要
申请公布号 SG116550(A1) 申请公布日期 2005.11.28
申请号 SG20040002967 申请日期 2004.05.26
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 JOHANNES JACOBUS MATHEUS BASELMANS;ARNO JAN BLEEKER
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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