| 发明名称 |
Interface improvement by electron beam process. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG116524(A1) |
申请公布日期 |
2005.11.28 |
| 申请号 |
SG20040000063 |
申请日期 |
2004.01.08 |
| 申请人 |
TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LTD |
发明人 |
TIEN-I BAO;SYUN-MING JANG |
| 分类号 |
H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/476;H01L23/522 |
主分类号 |
H01L21/768 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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