发明名称 |
利用级联抛物面反射镜的收集和聚集光学系统 |
摘要 |
一种电磁辐射收集和聚集光学系统,包括多个级联的凹形抛物面反射镜(32a,32b)和多个电磁辐射或光源(31a,31b),这些电磁辐射或光源射出光能到这些凹面反射镜,其射出方式使得由这些反射镜将来自每一个源(31a,31b)的能量组合到一个输出目标,例如单芯光纤(I)的端面。 |
申请公布号 |
CN1228566C |
申请公布日期 |
2005.11.23 |
申请号 |
CN00809764.X |
申请日期 |
2000.06.23 |
申请人 |
考金特光学技术公司 |
发明人 |
肯尼斯·K·利 |
分类号 |
F21V7/09;F21V7/06;F21V8/00 |
主分类号 |
F21V7/09 |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
蹇炜 |
主权项 |
1、一种电磁辐射收集和聚集光学系统,用于提供在一小区域中带有较高辐射通量的高强度光输出,包括:一个第一凹面反射镜,具有一个焦点,所述第一凹面反射镜具有基本上为抛物面的形状;一个第一电磁辐射源,设置在靠近所述第一凹面反射镜的所述焦点之位置;一个反向反射镜,被设计用于使电磁辐射改变方向而折回通过一个所述第一电磁辐射源的第一侧,然后出来通过所述第一电磁辐射源的第二侧,使得基本上所有由所述第一电磁辐射源发射的辐射都朝着所述第一凹面反射镜的抛物面部分;一个第二凹面反射镜,具有一个焦点,所述第二凹面反射镜具有基本上为抛物面的形状;一个第二电磁辐射源,设置在靠近所述第二凹面反射镜的所述焦点之位置;一个凹面聚焦反射镜,具有一个焦点,所述聚焦反射镜具有含抛物面形状的至少一部分;一个目标,设置在所述聚焦反射镜的所述焦点附近;及其中,所述第一凹面反射镜和所述反向反射镜被定向,以便校准基本上所有来自所述第一电磁辐射源的辐射,并使其射向所述第二凹面反射镜,所述第二凹面反射镜被定位,以便校准基本上所有来自所述第一凹面反射镜和所述第二电磁辐射源的辐射,并使其改变方向进入所述聚焦反射镜,所述聚焦反射镜被定位,以便收集由所述第二凹面反射镜反射的辐射并将辐射聚焦在所述目标上。 |
地址 |
美国加利福尼亚 |