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发明名称
Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号
EP1372038(B1)
申请公布日期
2005.11.23
申请号
EP20030253693
申请日期
2003.06.11
申请人
ASML NETHERLANDS B.V.
发明人
VOSTERS, PETRUS MATTHIJS HENRICUS;JACOBS, HERNES;VAN HEUMEN, MARK;KEMPER, NICOLAAS RUDOLF
分类号
G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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