发明名称 | 半导体激光器 | ||
摘要 | 一种具有振荡波长λ(nm)的半导体激光器,包括至少衬底、具有平均折射率N<SUB>1c1d</SUB>的第一导电类型包层、具有平均折射率N<SUB>A</SUB>的有源层结构、以及具有平均折射率N<SUB>2c1d</SUB>的第二导电类型包层。该半导体激光器的特征在于,具有平均折射率N<SUB>1SWG</SUB>的第一导电类型次波导层形成在衬底与第一导电类型包层之间,具有平均折射率N<SUB>1LIL</SUB>的第一导电类型低折射率层形成在次波导层与衬底之间,且这些折射率满足特定的关系。该半导体激光器具有相对于电流、光输出和温度的变化稳定的振荡波长。 | ||
申请公布号 | CN1701480A | 申请公布日期 | 2005.11.23 |
申请号 | CN03825304.6 | 申请日期 | 2003.09.09 |
申请人 | 三菱化学株式会社 | 发明人 | 堀江秀善 |
分类号 | H01S5/20 | 主分类号 | H01S5/20 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李晓舒;魏晓刚 |
主权项 | 1.一种半导体激光器,其具有振荡波长λ(nm),并包括至少衬底、具有平均折射率N1cld的第一导电类型包层、具有平均折射率NA的有源层结构、以及具有平均折射率N2cld的第二导电类型包层,其中具有平均折射率N1SWG的第一导电类型次波导层存在于该衬底与该第一导电类型包层之间,以及具有平均折射率N1LIL的第一导电类型低折射率层存在于该次波导层与该衬底之间,以及这些折射率满足所有以下公式:N1cld<NA,N2cld<NA,N1cld<N1SWG,N2cld<N1SWG,N1LIL<N1SWG。 | ||
地址 | 日本东京都 |