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发明名称 Plasma apparatus comprising plasma source coil for high process uniformity on wafer
摘要
申请公布号 KR100530596(B1) 申请公布日期 2005.11.23
申请号 KR20040021576 申请日期 2004.03.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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