发明名称 闪存存储单元的浮栅及其制备方法和一种闪存存储单元
摘要 本发明提供了一种闪存存储单元的浮栅及其制备方法和一种闪存存储单元,属于非挥发性半导体存储器技术领域。与传统的闪存存储单元相比,本发明采用异质结浮栅结构,在横向上分别采用P<SUP>+</SUP>N<SUP>+</SUP>P<SUP>+</SUP>不同掺杂的多晶硅或者宽禁带材料+窄禁带材料+宽禁带材料结构组成浮栅,导带和价带的能级上有至少两个异质结,该异质结使浮栅的能带形成能谷。实现了闪存存储单元存储的电子被浮栅的异质结限制在浮栅的能谷中,大大地增加了闪存的保持特性。而且在相同编程环境下,大大提高了闪存单元的编程速度和效率,降低了编程功耗。
申请公布号 CN1700474A 申请公布日期 2005.11.23
申请号 CN200510082811.1 申请日期 2005.07.08
申请人 北京大学 发明人 蔡一茂;单晓楠;周发龙;李炎;黄如;王阳元
分类号 H01L27/105;H01L29/788;H01L21/28;H01L21/8239 主分类号 H01L27/105
代理机构 北京君尚知识产权代理事务所 代理人 贾晓玲
主权项 1、一种闪存存储单元的浮栅,浮栅的能带由导带和价带组成,导带和价带之间隔着禁带,导带和价带的能级上有至少两个异质结,该异质结使浮栅的能带形成能谷。
地址 100871北京市海淀区颐和园路5号
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